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SUSS MicroTec-ASx系列全自動工藝平臺
  • 產(chǎn)品型號:HP8TT
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2026-08-10
  • 訪  問  量:466
簡要描述:

SUSS MicroTec-ASx系列全自動工藝平臺
  SUSS-MicroTecSE(集團母公司),SUSS-MicroTec-Solutions是旗下核心制造子公司,坐落于德國巴登符騰堡州Sternenfels,主營鍵合、涂覆、濕法工藝設備生產(chǎn)。

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聯(lián)系電話:18513086679

產(chǎn)品詳情

SUSS MicroTec-ASx系列全自動工藝平臺

  SUSS-MicroTecSE(集團母公司),SUSS-MicroTec-Solutions是旗下核心制造子公司,坐落于德國巴登符騰堡州Sternenfels,主營鍵合、涂覆、濕法工藝設備生產(chǎn)。

  半導體后端/先進封裝、光掩模設備隱形

SUSS MicroTec-ASx系列全自動工藝平臺

  一、兩大核心業(yè)務板塊(SUSS完整解決方案體系)

  1.AdvancedBackendSolutions先進后端解決方案(核心營收)

  覆蓋光刻、涂膠顯影、晶圓鍵合、納米壓印、激光加工,服務先進封裝、MEMS、化合物半導體、功率器件、光電子。

  (1)掩模對準光刻系統(tǒng)MaskAligner

  MA系列(量產(chǎn)全自動)

  MA300Gen3(300mm晶圓)、MA200Gen3(200mm):亞微米對準,真空接觸曝光最小0.8μm線寬,2.5D/3D封裝、扇出型WLP主力設備

  MA/BAGen4Pro(半自動研發(fā)/中試)

  MA6/MA8,適配6/8英寸、薄片/異形襯底,高校實驗室、MEMS研發(fā)標配

  DSC300UV投影掃描曝光機:300mm投影光刻,厚膠、微透鏡、納米壓印專用

  MA6Gen4實驗室光刻機

  (2)涂覆/顯影/濕法系統(tǒng)Coater&Developer

  RCD系列、LabSpin旋涂機、噴墨PiXDRO打印平臺:光刻膠、臨時鍵合膠、絕緣層涂覆、顯影、剝離、等離子預處理一體化設備

  (3)晶圓鍵合WaferBonder

  SUSS是混合鍵合、支撐HBM高帶寬存儲、3DIC堆疊:

  XBS300:300mm臨時鍵合/解鍵合平臺,超薄晶圓減薄制程

  XBC300Gen2:晶圓-晶圓/晶粒-晶圓混合鍵合,對位精度±200nm,AI在線空洞檢測

  SB/XB系列:熔融鍵合、陽極鍵合、金屬熱壓鍵合,MEMS傳感器、紅外器件量產(chǎn)

  (4)配套工藝設備

  納米壓印SMILE平臺、Tamarack激光微加工、解鍵合DB系列、高精度量測系統(tǒng)

  2.PhotomaskSolutions光掩模解決方案(前道掩模專用)

  為芯片制造廠光罩車間提供全套掩模制程設備:

  MaskTrack系列掩模清洗、顯影、剝離、PEB烘烤、pellicle貼膜/撕膜機,適配7nm~28nm節(jié)點光掩模量產(chǎn),全球頭部晶圓廠標配。

SUSS MicroTec-ASx系列全自動工藝平臺

  二、一臺ASx整合掩模制造后道全套濕法/熱工工序:

  PEB曝光后烘烤(25區(qū)獨立控溫加熱板)

  高精度顯影Develop

  光刻膠剝離Strip

  多藥液濕法清洗Clean

  精密干燥、腔室閉環(huán)環(huán)境控制

  適配石英掩模版、鉻版、相移掩模PSM、OPC光罩。

  三、關鍵硬件與技術亮點

  1.25分區(qū)智能烘烤系統(tǒng)

  溫度區(qū)間90~130℃,全域溫均勻性很高

  內(nèi)置AI算法自動微調(diào)烘烤曲線,精準控制CD線寬偏移,穩(wěn)定掩模圖形尺寸一致性

  2.低缺陷A+噴嘴顯影系統(tǒng)

  全域均勻噴淋顯影液,無邊緣圖形畸變

  藥液循環(huán)多級精密過濾,大幅降低顆粒缺陷,一次清洗良率行業(yè)頂尖,延長掩模使用壽命

  3.緊湊型整機占地

  整機外尺寸僅1200×1200mm,相比競品大幅節(jié)省潔凈車間面積,降低廠房建設與運維成本(COO綜合擁有成本優(yōu)勢明顯)

  4.閉環(huán)潔凈環(huán)境控制

  整機內(nèi)部獨立溫濕度、化學蒸汽隔離腔室,搭配全自動化學過濾模組;

  全程密閉傳輸掩模版,杜絕外界顆粒、酸堿蒸汽污染光罩圖形。

  5.高可靠自動化集群架構

  三、應用場景

  晶圓廠內(nèi)部光掩模車間(IDM廠自研光罩產(chǎn)線)

  專業(yè)第三方光掩模制造廠商(MaskShop)

  存儲、邏輯芯片65nm~250nm節(jié)點量產(chǎn)光罩加工

  先進14nm及以下節(jié)點掩模驗證、小批量試產(chǎn)

  四、核心技術優(yōu)勢

  全流程閉環(huán)工藝:業(yè)內(nèi)少數(shù)可同時提供「涂膠→曝光→顯影→預處理→鍵合→檢測」一體化成套方案廠商

  超高對位精度:鍵合機±200nm、光刻機亞微米級多層套刻能力,適配異構集成

  模塊化量產(chǎn)平臺:研發(fā)機型工藝可無縫遷移至全自動量產(chǎn)線,降低中試轉(zhuǎn)產(chǎn)成本

  AI工藝檢測:鍵合界面空洞機器學習自動識別,提升3D堆疊良率

  多材質(zhì)兼容:硅、碳化硅、氮化鎵、玻璃、石英、超薄臨時載片、異形襯底通

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